[비즈월드] 중국 국무원(国务院)은 지난 13일 '2020년 국가지식재산권전략 심화 실시 및 지식재산권 강국 건설 가속화 추진계획(2020年深入实施国家知识产权战略加快建设知识产权强国推进计划)'을 발표했다고 한국지식재산연구원이 중국지식재산권국의 발표를 인용해 전했다.

중국 국무원은 '새로운 상황 하에서의 지식재산권 강국 건설을 가속화하는 몇 가지 의견(国务院关于新形势下加快知识产权强国建设的若干意见)'과 '국가지식재산권 전략 심화실시 행동계획(2014-2020년) (深入实施国家知识产权战略行动计划(2014-2020年)'을 실천하기 위해 매년 관련 추진계획을 수립·시행해 오고 있다고 한다.

이번 추진계획의 핵심 내용은 ▲지식재산권 분야 개혁 심화(深化知识产权领域改革) ▲지식재산권 보호 강화(加大知识产权保护力度) ▲지식재산권의 창조 운용 촉진(促进知识产权创造运用) ▲지적재산권 국제 교류 협력 강화(深化知识产权国际交流合作) ▲루프 설계와 조직 실시 강화(加强顶层设计和组织实施) 등 5대 중점분야에 대한 총 100개의 정책 조치를 제시했다.

주요 내용을 보면 '지식재산권 분야 개혁 심화'를 위한 정책으로는 고품질의 지식재산권 서비스 제공을 위한 정책 제정, 지식재산권 보호 조치의 경험공유와 확산, 방관복 개혁의 심화, 지식재산권 관련 업무·행정·정보를 제공하기 위한 공공서비스를 하나의 네트워크로 연결, 특허대리업 자정활동의 심화 추진 등을 들었다.

'지식재산권 보호 강화'를 위한 정책들로는 특허법과 저작권법의 개정업무를 가속화, 지식재산권 보호센터 건설 등을 통해 장기적인 지식재산권 보호 시스템 구축, 지식재산권 행정집행을 강화하고 각종 전문행동을 지속적으로 전개, 지식재산권 재판 표준의 통일을 추진하고 민사소송 절차의 간소화를 시범 실시해 사법보호를 강화 등을 들었다.

'지식재산권의 창조 운용 촉진' 정책으로는 IP 심사품질과 심사효율을 개선해 심사주기를 단축, 비정상적인 특허 출원과 악의적 상표출원·상표선점행위를 단속, 각 지역 특성과 결합한 상표와 지리적표시 상품 브랜드 개발 실시, 지식재산권 이전·양도의 활성화 추진 등의 세부 정책을 제시했다.