2006년과 2012년에 제도 요건 완화 후 큰 폭 증가
미국과는 제도 통일… 유럽‧중국 등과는 제도 조화 필요 

[비즈월드] # ‘ㄱ’교수는 전고체 배터리 기술개발에 성공한 후 특허청에 특허를 출원했다. 그러나 ‘ㄱ’교수가 해당 기술을 2개월 전 논문으로 발표하면서 공개됐기 때문에 특허를 받을 수 없다는 결과를 통지받았다. 해결방안을 찾던 중, 특허청이 보내온 통지서 하단에서 ‘공지예외주장’을 신청하라는 내용을 발견했고 해당 신청 기간 내에 공지예외주장을 신청해 결국 특허를 등록받는데 성공했다. 

표=특허청
표=특허청

특허청(청장 이인실)은 2001년부터 2020년까지 20년 동안 총 7만6063건의 특허‧실용신안 출원에서 ‘공지예외주장’ 제도가 이용됐다고 밝혔다. 연도별 공지예외주장 건수는 2001년 732건이던 것이 2020년에는 5346건으로 급증하면서 꾸준하게 이용되고 있는 것이다.

‘공지예외주장’이란 발명이 출원 전에 공지(공개)되었더라도 ▲출원인 본인이 공개한 경우 ▲출원인의 의사에 반해 공개된 경우(기간 요건)는 공개일로부터 12개월 이내에 출원된 경우 등 일정요건을 충족하는 경우 그 발명이 공지되지 않은 것으로 보고 특허를 받을 수 있도록 하는 것이다. 즉 자기 발명의 공개로 인한 피해를 방지하고 연구결과의 신속한 공개를 유도해 산업발전에 이바지할 수 있도록 하기 위한 제도이다.

표=특허청
표=특허청

해당 20년 동안 공지예외주장 현황을 출원인 유형별로 보면 대학(54.1%), 연구기관‧공공기관(16.3%), 중소기업(11.0%), 내국인 개인(8.6%), 대기업(4.9%), 중견기업(2.8%) 순으로 많이 이용했다. 

표=특허청
표=특허청

특히 출원건수 대비 공지예외주장 비율(2016년~2020년)은 대학(20.1%), 연구기관‧공공기관(8.4%), 비영리기관(8.0%) 순으로 나타났으며, 상대적으로 대기업(0.6%), 중견기업(1.4%), 중소기업(1.3%) 등 기업들의 이용빈도는 낮았다. 

이는 대학들이 기술개발 후 논문을 먼저 발표한 다음 특허를 출원하는 경향이 있는 반면, 기업들은 다른 기업보다 먼저 시장을 선점하기 위해 기술개발 후 즉시 출원하기 때문인 것으로 특허청은 분석했다.

해외현황을 보면 미국은 우리나라와 동일하게 공지예외 신청기간이 12개월이고, 모든 형태의 공지에 대해 공지예외를 인정하고 있다. 

그러나 유럽·중국 등의 공지예외 신청기간은 6개월로 짧고, 공지형태는 유럽은 국제박람회에서 공개된 경우 등으로, 중국은 중국 정부가 주관‧승인한 국제전람회나 규정된 학술회의에서 공개된 경우 등으로 제한하고 있는 상황이다.

한편 특허청은 공지형태 제한 완화(2006년), 신청기간 연장(2012년), 보완제도 도입(2015년) 등 규제완화를 위한 국내 제도개선과 함께 해외 진출 출원인들의 편익 향상과 권리보호를 위해 세계지식재산기구(WIPO) 회의 등에서 공지예외 요건의 국제적인 조화를 계속 논의하고 있다고 설명했다.

이인실 특허청장은 “그동안 공지예외주장 제도를 개선해온 결과, 이 제도의 신청건수가 연간 5000건 이상으로 크게 증가해 규제 완화의 효과를 확인할 수 있었으며 특히 대학과 연구기관들이 특허를 확보하는 데에 도움을 주고 있다는 사실을 확인했다”면서 “다만 해외출원 때 미국을 제외한 유럽·중국 등에서는 엄격한 요건으로 인해 공지예외를 인정받지 못할 수 있으므로 발명을 공개하기 전에 우선적으로 특허청에 출원하는 것을 권장한다”라고 말했다. 

이어 “특허청은 해외로 진출하는 우리 기업과 발명자들을 보호할 수 있도록 공지예외 요건 등 특허제도의 국제적인 조화에 대해 다양한 논의를 적극 추진해 나가겠다”라고 덧붙였다.

[비즈월드=정영일 기자 / zprki@bizwnews.com]

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